電子半導体水処理システム - あなたの成功の鍵！

✅ 電子セミコンダクター業界に水処理装置が必要なのはなぜですか？

電子半導体製品の生産プロセスには、水質に関する非常に高い要件があります。半導体材料の製造には、正確な化学反応と身体的治療プロセスが含まれます。水中に不純物、イオン、または微生物がある場合、製品を汚染し、その性能、安定性、信頼性に影響を与えるのは非常に簡単です。したがって、生産水の純度を確保するために、水処理装置を介して水中のさまざまな不純物を除去する必要があります。

Wteya Ultrapure Water機器を例として摂取すると、一連の高値を通じて不純物、イオン、および微生物が水中を効果的に除去します。-精度と高-Preなどの技術治療プロセス-治療吸着ろ過、逆浸透浄化、および樹脂イオン交換により、生成された超純水が非常に高い抵抗率を確保します。このタイプの超純水は、半導体製造におけるクリーニング、エッチング、薄膜堆積、ドーピングなどの重要なプロセスで広く使用されており、製品の品質とパフォーマンスを確保するためのコア要素です。

✅ エレクトロニクス半導体業界で一般的に使用される水処理装置とアプリケーションシナリオ

1。マルチ-メディア/活性炭ろ過システム

>> アプリケーションリンク：

前処理段階として、マルチ-メディアフィルターは、さまざまなフィルターメディアの組み合わせを通じて、水中の懸濁物質、コロイド、および粒子状物質を効果的に除去し、その後の治療装置を保護し、全体的な治療効果を改善します。活性炭フィルターは、水中の有機物、臭気、色素、および残留塩素を吸着するために使用され、水質の純度をさらに改善し、その後のウルトラピア水システムの安定した動作を確保します。

>>技術原則：

マルチ-媒体ろ過は、主に、フィルター層の物理的傍受と吸着に依存して、異なる粒子サイズの粒子の深いろ過を実現します。

その巨大な特定の表面積と複雑な細孔構造に基づいて、活性炭ろ過は有機汚染物質と臭気の強い吸着能力を持ち、水中の残留塩素も除去することができます。

>> 達成効果：

ほとんどの不純物を効果的に除去し、高く提供します-逆浸透やイオン交換などの深い処理のための高品質の水源により、超純水の品質が向上し、下流の機器が保護されます。

2。超微細ろ過システム

>> アプリケーションリンク：

preに使用されます-ウェーハ表面がきれいで汚染であることを確認するための洗浄プロセスでの超純水の治療-無料。

プロセス液体の精製 (酸、アルカリ、有機溶媒など) 微粒子の不純物を除去し、液体の純度を確保します。

機器の損傷を防ぐために、機器冷却水システムに不純物をろ過します。

>> 技術原則：

限外ろ過は圧力です-特定の細孔サイズの半周膜を使用する駆動膜分離技術 (0.002~0.2μm) コロイド、粒子、タンパク質、微生物などの不純物を水中でろ過して、生産水の高い純度を確保します。

>> 達成効果：

高く提供します-純度の品質を確保するための純度を処理します。

機器を保護し、サービスの寿命を延ばします。

生産効率を改善し、水質の問題による中断を減らします。

廃水処理の難しさを軽減し、グリーンと持続可能な開発を支援します。

3。逆浸透 (ro) 膜システム

>> 応用：

これは、超純水の準備プロセスのコアリンクとして使用され、低い値を提供します-導電率、高-ウェーハとチップクリーニングの純度水源、水質のための半導体製造の厳格な要件を満たしています。

>> 技術原則：

逆浸透は、高圧を使用して半膜を通って水を押し、溶解した塩、有機物、重金属などの不純物を効果的に除去し、水分子が通過して水精製を実現できるようにします。

>> 達成効果：

さまざまな汚染物質を効率的に除去し、高く生成します-純度の水。

水の生産の品質を安定させ、ソースの水の変動の影響を減らします。

製品の収穫量を改善し、コストを削減し、環境の利点を改善します。

4。EDIシステム (電気化システム)

>> 応用：

投稿に使用されます-水からイオンを除去するのに非常に高い効率を備えた、洗浄、プロセス液体の調製、およびその他のリンクに適した超純水の調製の処理。

>> 技術原則：

EDIは、イオン交換膜とDC電界を組み合わせて、化学再生剤を必要とせずにイオンの移動と除去を実現しますが、自己-電気を介してイオン樹脂を再生成して、継続的かつ安定して高く生成する-純度の水。

>> 達成効果：

継続的かつ安定して生産します ≥15mΩ 超純水;

化学物質、緑と環境に優しいものの使用を減らします。

簡単な操作とメンテナンス、低エネルギー消費。

5。混合ベッドシステムの研磨

>> アプリケーションリンク：

超純水システムの最後のチェックポイントとして、それは主にチップクリーニングや半導体材料の準備などの主要なリンクで使用され、水純度が限界基準に達するようにします。

>> 技術原則：

研磨混合床は、陽イオンと陰イオン交換樹脂の混合充填方法を使用して、樹脂のイオン交換効果を介して残留イオンと有機不純物を除去し、最終的な高を達成するために樹脂のイオン交換効果を除去します-純度の水質。

>> 達成効果：

抵抗率が最も高い超純水を提供します。

チップの信頼性と収量を改善します。

機器のメンテナンス頻度を減らし、生産の継続性を改善します。

✅ wteya one-解決策を停止します

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